氧化反應層工作-PDS實用步奏

鈍化膜料厚是在PDS?向外吸附整個過程必須監測器的偏重要的首要參數。它打算了元件質理，不勻性和固定源的用期。固定源廣泛應用首要上是管理系統可以用于向外吸附的鈍化物（B2O3 一些 P2O5）的量。而是固定源的結構怎么樣才能，鈍化物是硅表面能上的影響的終結夾雜著劑源。鈍化物的所產生, 但要是鈍化（P型）但要是溶解（N型）。

在不同個擴撒的時候中有的防非金屬氧化物（即參雜劑）的量是至關更重要的。比如植物的根太少，則不足夠的的參雜劑來提高工作目標方阻。比如植物的根不多，則此處的時候中會有不多缺欠，并可能會變短固體源的平均壽命。

空氣陽極氧化物質的量由在外擴散歷程中積累在硅片表層上的空氣陽極氧化膜的寬度來分析方法。意見的寬度為300-1000?，或30-100納米級，主要考量于各個的固體源產品。

被金屬氧化物高度還可以按照橢偏儀或自動側量聚酰亞胺膜測厚儀。推算聚酰亞胺膜高度的另一個說的是種方法步驟是觀測硅片上聚酰亞胺膜的背景色。非常典型的背景色數據統計圖有以下圖甲中。大都數五彩數據統計圖是為SiO2聚酰亞胺膜搭建的。SiO2，B2O3和P2O5的映射率會存在差異性。 然而，這并不太會改變背景色和背景色的先后順序。而言固態硬盤安裝硬盤安裝源這已經比準確度自動側量更實用。而言300-1000?的范圍圖，數據統計圖中只能前一種背景色與固態硬盤安裝硬盤安裝源技術實際效果關于。

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會因為氧化物層是在淺色硅片上，事實上看更就是這張照片視頻。

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施用五彩數據圖表的這個優勢是可不可以馬上通過觀察膜板厚的分布點。下例有的是些復合膜太厚且不更加均勻的案例。

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不良影響防氧化膜重量舉例劃分的其主要要素是工藝設配濕度，時，有機廢氣氣體流動速度，設配環境和固定源保存。

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最喜歡見的大問題是鈍化膜太厚，格外是這對P型固定硬盤源。這有可能形成硅晶格障礙的加強和固定硬盤源翹曲。 在難治的的情況下，過鈍化更多會形成B2O3從固定硬盤源的面從下向上流chan。 過鈍化和翹曲解除了固定硬盤源的耐用度。

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根據在P型nvme固態硬盤安裝硬盤安裝源中，B2O3 的誕生了是使用陽極防硫化的的誕生了的。太厚的陽極防硫化的的膜象征著nvme固態硬盤安裝硬盤安裝源被導致過度陽極防硫化的的。陽極防硫化的的智能在高溫天氣下有著氧源時才會發生的。這樣技術工序是科學合理的，則過陽極防硫化的的智能由非目標的和/或不會受到調節的氧源誘發。主要的是氣體和水量。我們可能會源自室內環境，蔓延轉移儀器的液化氣泄漏，有機廢氣物離交柱到蔓延轉移爐，nvme固態硬盤安裝硬盤安裝源的貯藏水平不正確等。

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