兜兜風知道PDS固態硬盤安裝擴散作用源（一）

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1.什么是PDS固態源?

在微電子行業中，對硅片進行擴散需要用到硼或者磷源。離子注入是8“及以上尺寸硅片最常用的方式，液態或者氣態源則廣泛用在均勻性要求不高的工藝中。而固態擴散源是一種高要求擴散的優良的解決方案。圣戈班從上世紀70年代開始開發固態源工藝，目前提供全方位的產品和技術支持。PDSR是Planar Diffusion Sources (平面擴散源)的商標。

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2.為什么要用PDS固態源？

首先是均勻性良好，一般使用者反饋片內和片間均勻性可以控制到1%~2%。且成品缺陷程度低。其次是PDS固態源無毒無害，相較于液態或者氣態源，PDS的設備毒害防護要求很低。從液態或者氣態源改造為固態源僅需要修改氣路，添置專用石英舟等簡單改造即可使用。 使用固態源產生的參雜劑封閉在硅片周圍，不會附著在設備管道或者門上，易于設備清理和維護。可以簡單通過擴散溫度，時間和氣流來控制需要的目標產品，不連續生產的時候也方便取出和保存。通過工藝中間的膜厚測量可以預判生產品質。跟離子注入相比，固態源一次擴散一個舟可以擴散25片，效率很高。

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